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  • 独立式化学气相沉积(CVD)系统是一个易于使用的系统,用于均匀沉积薄膜材料,包括半导体、碳化硅(SiC)、金属基板上的氧化物、碳化物、氮化物等。得到的薄膜表现出you异的均匀性和良hao的阶梯覆盖。化学气相沉积(CVD)系统也可用于合成纳米材料,例如碳纳米管,石墨烯、半导体纳米线。
  • 等离子体增强化学气相沉积系统是进口的PEVCD系统,具有竞争力的价格和性能。
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