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  • 等离子体灰化蚀刻系统e3600采用zui新的光刻胶去除技术

    离子体灰化蚀刻系统 FPESI-E3611

    品牌:进口 价格:0.00
    等离子体灰化蚀刻系统e3600采用zuixin的光刻胶去除技术,为去除晶圆光刻胶提供高效方案。可以在不改变硬件的情况下同时处理不同尺寸的晶圆。凭借紧凑的模块化设计，它可以以较低的拥有成本提供高吞吐量。
  • 晶圆灰化系统是为晶圆ashing设计的晶圆灰化机,wafer ashing

    晶圆灰化系统 FPESI-E3511

    品牌:进口 价格:0.00
    晶圆灰化系统是为晶圆ashing设计的晶圆灰化机,wafer ashing,广泛用于本体抗蚀剂,LDI后抗蚀剂,聚合物去除。
  • 晶圆去胶剥离机RSSx124,126,128,133系列是ULTRA光刻胶清洗机器-辅光仪器

    晶圆去胶剥离机 FPULT-RSS

    品牌:进口 价格:0.00
    晶圆去胶剥离机RSSx124,126,128,133系列是ULTRA光刻胶清洗机器,适合晶片、光掩模和基板清洗去胶剥离工艺需求。晶圆去胶剥离机RSSx 124、126、128或133专门配置用于晶片、光掩模和基板的基于负和正光致抗蚀剂的工艺。
  • 晶圆蚀刻清洗机CES是ULTRA晶圆蚀刻清洁系统-辅光仪器

    晶圆蚀刻清洗机 FPULT-CES124

    品牌:进口 价格:0.00
    晶圆蚀刻清洗机CES是ULTRA晶圆蚀刻清洁系统,满足晶片、光掩模和基板蚀刻清洗特定工艺需求。
  • 半自动晶片清洗系统UH119是Ultron Systems高压晶片清洁机-辅光仪器

    半自动晶片清洗系统 FPULT-UH119

    品牌:进口 价格:0.00
    半自动晶片清洗系统UH119是Ultron Systems高压晶片清洁机的zui新设计。半自动晶片清洗系统UH119的非接触清洗功能主要针对切割后晶圆应用而设计，利用可变循环高压清洗，实现高效、快速和卓越的晶片清洗。
  • 半自动晶圆清洗机_半自动晶片清洁系统,UH117适合锯切划线后的晶片清洁-辅光仪器

    半自动晶圆清洗机 FPULT-UH117

    品牌:进口 价格:0.00
    半自动晶圆清洗机UH117型是半自动晶片清洁系统,专业为为锯切或划线后的晶片清洁而设计。
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