晶圆显影清洗机

晶圆显影清洗机SD12具有晶圆显影机和晶圆清洗机的双重功能，晶圆显影清洗机是xianjin的液体旋转工艺系统，内嵌多种溶液分配模块，例如高压喷淋（压力zui大120bar）。该晶圆显影清洗机可满足12英寸（300mm）圆片、9英寸×9英寸（230毫米×230毫米）方形基片和掩模的工艺需求，包括NMP剥离、显影（包括丙酮及其它溶液）、光刻胶去除和和清洗等应用环境。该晶圆显影清洗机也可以处理易碎的基片（例如磷化铟和砷化镓），并拥有极高的良率。
晶圆显影清洗机具有良hao的灵活性
晶圆显影清洗机通过使用you化的卡盘处理多种不同类型的晶圆,甚至脆的衬底（例如InP、GaAs）也可以安全地处理。特殊工具和广泛的易于调整的工艺参数使晶圆显影清洗机适用于涉及溶剂介质的许多工艺应用。借助编程参数（如步进时间、旋转速度、加速度和减速度、分配臂位置和旋转运动）的能力.
晶圆显影清洗机具有良hao的溶液分配技术
晶圆显影清洗机为不同的工艺需求提供了广泛的分配技术。可以运行多种工艺：从简单的水坑或喷雾显影到剥离，除了用于浸泡和zui终冲洗的水坑分配外，还需要高压来剥离抗蚀剂和金属。还可以执行特殊应用，例如从安装在带架上的晶片上清洁粘合剂，这些应用可能需要使用超声波传感器来获得zui佳清洁效果。可以在晶圆显影清洗机的分配臂处配置上述所有分配技术。
基于溶剂的智能介质系统
专为处理溶剂基介质的特殊需要而定制。所有与工艺化学品接触的零件均由不易受影响的材料制成。排水管可以连接到房屋排水管或废物罐。
溶剂介质安全存储在配有排气连接的介质存储装置中，并由溶剂泄漏检测器和气体传感器固定。流量控制系统和压力调节器管理介质。可选地，可以控制介质温度以确保zui佳工艺结果。可以安装介质再循环系统，以减少总体介质消耗。
易于维护和操作
晶圆显影清洗机SD12易于操作和维护。只需按下一个按钮，即可调用工艺参数和介质数据。可编程配方加快了工作流程，促进了重复性。所有零件都易于接近，便于操作和维护工具。此外，该工具的设计主要关注操作员安全。带有自动安全玻璃门的密封工艺室确保了封闭的工艺环境，并便于工艺监控。互锁传感器确保工具的安全操作。